集成電路領(lǐng)域:光阻去膠工藝
先進封裝領(lǐng)域:TSV刻蝕后去膠工藝、UBM/RDL 去膠工藝
- 上一條:
- 沒有產(chǎn)品了
- 下一條:
- 等離子清洗,去膠設(shè)備
產(chǎn)品特點
1.自主研發(fā)的智能精準的傳輸控制系統(tǒng)
2.全自動化學(xué)品集中供液系統(tǒng)(CDS|)
3. 藥液溢流設(shè)計,減少單片藥液用量,降低使用成本
4. 晶圓表面去膠良品率100%
5. 設(shè)備Through-Put 產(chǎn)能每小時200片(雙TANK)
6.可選配單元模塊對應(yīng)不同的光阻去除需求
7. 藥液槽采用雙槽體設(shè)計,可實現(xiàn)精確控溫
8. 獨立控制廢液排氣,有效保護人員作業(yè)