集成電路領(lǐng)域:光阻去膠工藝
先進(jìn)封裝領(lǐng)域:TSV刻蝕后去膠工藝、UBM/RDL 去膠工藝
- 上一條:
- 沒有產(chǎn)品了
- 下一條:
- 等離子清洗,去膠設(shè)備
產(chǎn)品特點(diǎn)
1.自主研發(fā)的智能精準(zhǔn)的傳輸控制系統(tǒng)
2.全自動(dòng)化學(xué)品集中供液系統(tǒng)(CDS|)
3. 藥液溢流設(shè)計(jì),減少單片藥液用量,降低使用成本
4. 晶圓表面去膠良品率100%
5. 設(shè)備Through-Put 產(chǎn)能每小時(shí)200片(雙TANK)
6.可選配單元模塊對(duì)應(yīng)不同的光阻去除需求
7. 藥液槽采用雙槽體設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)精確控溫
8. 獨(dú)立控制廢液排氣,有效保護(hù)人員作業(yè)